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真空镀膜之多弧离子镀 ：

电弧电流一般为几安至几百安，工作电压为10-25V，这时阴极表面的全部电流集中在一个或多个很小的部位 ， 形成明亮的阴极弧斑 ， 阴极弧斑的直径为0.01-100um， 并以高达100m/s的速度在阴极靶表面随机运动 ， 也可以利用磁场控制阴极弧斑的运动。在阴极弧斑的前方是高密度的金属等离子体， 由于电子向阳极快速移动而使阴极斑点前方出现离子堆积即形成正空间电荷 ， 从而在阴极附近形成极强的电场， 导致场电子发射以维持弧光放电。

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物理l气相沉积法主要有真空蒸镀、溅射和离子镀。

真空蒸镀：在真空中加热使金属、合金或化合物蒸发，然后凝结在基体表面上的方法叫真空蒸镀。

溅射：溅射是利用高速正离子轰击某一靶材（阴极），使靶材表面原子以一定能量逸出，车灯杯注塑，后在工件表面沉积的过程。

离子镀：离子镀借助于一种惰性气体的辉光放电使欲镀金属或合金蒸发离子化，并在这些荷能离子轰击基体（工件）表面并同时沉积在其上形成镀膜。

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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 ：

在膜层沉积时，用于增加离子能量，促进和改善薄膜生长，提高膜基结合力。

偏压越大离子附加能量越强，沉积过程中对膜层的轰击净化作用越明显，膜层越致密，同时颜色会越浅，车灯杯报价，膜层L值（亮度）会增加，显微硬度会增加、同时膜层外观粗糙度会变差，沉积过程中工件和膜层温升越大，偏压太大可能使工件变形受伤，或产生热应力崩膜。

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